砷剂可诱导脑胶质瘤细胞凋亡

　　由哈尔滨医科大学附属一院神经外科主任赵世光教授领衔完成的一项课题？？《砷剂对脑胶质瘤细胞影响的基因芯片研究及颅内缓释剂型的研发》，首次通过实验证实三氧化二砷（As2O3）能诱导脑胶质瘤细胞凋亡；同时自主研制了As2O3脂质体缓释剂，在胶质瘤切除术后直接植入手术区域，实现了脑胶质瘤术后局部缓释化疗。这一成果日前获得了黑龙江省医药卫生科技进步一等奖。

　　脑胶质瘤是起源于神经外胚层的肿瘤，约占成人颅内恶性肿瘤的70%。本病具有恶性程度高、术后易复发等特点，其复发通常位于原发肿瘤部位，往往在不超过原位置两厘米的范围内发生。因此，有效杀灭残留的肿瘤细胞对改善预后十分必要。

　　As2O3是传统中药砒霜的主要化学成分，已被广泛用于白血病、淋巴瘤的治疗，并取得良好疗效。在此基础上，近年来国内外学者开始将这一化学药物应用于胃癌、肝癌、头颈癌、前列腺癌等实体性肿瘤上。在前期科研工作中，赵世光教授等人承担了国家自然科学基金课题《砷剂对脑胶质瘤的影响及细胞周期蛋白变化机制的研究》，他们首次发现As2O3可抑制脑胶质细胞系U87MG和T98G的增殖。在此基础上，课题组又获黑龙江省重大攻关项目经费资助，更加深入地探寻砷剂作用于脑胶质瘤的具体机制，开发具有临床应用价值的间质化疗新剂型。

　　在此研究期间，课题组率先在脑胶质瘤动物模型上开展了实验研究，证实As2O3以剂量依赖的方式抑制肿瘤细胞增殖并诱导凋亡。同时将As2O3制成粒径为0.25微米~1微米的单层脂质体，使之更好地透过血脑屏障，提高脑内药物浓度。在使用As2O3脂质体治疗后的大鼠脑胶质瘤组织电镜切片中，可见肿瘤细胞出现细胞凋亡的典型改变，并呈现出明显的剂量-时间依赖性关系。

　　赵世光教授等人还采用直接压片法将As2O3与无毒性、无刺激性、具有良好生物相融性的新型降解缓释材料？？乙交酯-丙交酯聚合物（PLGA）按比例制成As2O3脂质体缓释剂，于脑瘤切除术后直接植入手术区域，使恶性脑瘤术后局部缓释化疗成为可能。

　　国内著名专家评价指出，此项研究成果拓展了As2O3的抗瘤谱及其药用价值，特别是着眼于脑胶质瘤的缓释化学治疗，具有独创性和广阔的临床应用前景。

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